此套系统硫化物管式炉CVD系统前端配有可加热到0-1000℃的蒸发器,辅助固体源蒸发,后端为双温区硫化炉,温度控制精确,操作简便。
左端配有法兰支撑架可将预热器和硫化炉分开使用。右端可配气氛微调装置,可以准确的反应腔体内部的气体压力,带刻度的调
节阀对于做低压CVD非常实用,重复性好;真空机组装有真空粉尘过滤器以保护机械式真空泵不被硫粉尘损坏。整套系统可在1200℃
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以下的工艺温度稳定气相沉积二硫化钼等二维化合物材料。
设备组成
硫化物管式炉CVD系统由TF1100蒸发器,TF1200双温区管式炉,(蒸发器与高温反应区采用分体式),真空机组,可选浮子或质子混气室组成。
主要技术参数
名称:预加热蒸发器
型号:TF-1000
工作温度:室温-1000℃
设计温度:1050℃
升温速率:30℃/min
推荐升温速率:10℃/min
控温方式:智能化30段可编程控制
工作电压:AC220 V
额定功率:1000W
控温精度:±1℃
加热元件:电阻丝
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加热区长度(mm):150mm
1200度双温区硫化炉 技术参数:
名称:双温区硫化炉
型号:TF1200
额定功率(KW):3
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额定电压(V):AC220v 50/60 Hz
控温精度(℃):±1
加热元件:电阻丝
设计温度(℃)
:1200(1 hour)
持续工作温度(℃):1100
升温速率(℃/min):≤50
炉管尺寸(mm):
高纯石英管Φ50×1500mm
加热区长度(mm):150/300mm
恒温区长度(mm):100/120mm
控温方式:模糊PID控制和自整定调节,智能化30段可编程控制,具有超温和断偶报警功能
配件
配真空粉尘过滤器,DN25手动蝶阀用于控制炉管内压力,防腐型数显真空计,三路混气系统(可选)
3路质子供气系统
深V名称:3路质量流量计混气室
设备重量:35Kg
外形尺寸:600x600x650mm
连接头类型:双卡套不锈钢接头。
标准量程(N2标定):50sccm、200sccm、500sccm; (可根据用户要求定制)
准确度:±1.5%
线性:±0.5~1.5%
重复精度:±0.2%
响应时间:气特性:1~4 Sec,电特性:10 Sec
工作压差范围:0.1~0.5 MPa
设计压力:3MPa
接口:Φ6,1/4''
显示:4位数字显示
工作环境温度:5~45高纯气体
内外双抛不锈钢管:Φ6
压力真空表:-0.1~0.15 MPa, 0.01 MPa/格
截止阀:Φ6
低真空机组技术参数:
空气相对湿度≤85%,
工作电电压:220V±10% 50~60HZ
功率:1千瓦
抽气速率:4L/s
极限真空:4X10-2Pa
实验真空度:1.0X10-1Pa
容油量:1.1L
进气口口径:KF25
排气口口径:KF25
转速:1450rpm
噪音:50dB
外型尺寸:450×180×240mm
配真空粉尘过滤器,DN25手动蝶阀用于控制炉管内压力,INFICON PCG554复合真空计